第103章 新的赛道，王老板彻底暴露
半导体行业很是复杂，上下游产业链太多。
幸好除了光刻机之外，其他产业链没有那么高的技术壁垒，国内企业都能突破。
真正卡脖子的，就是光刻机！
2011年全球主流的光刻机，还是第五代光刻机，ArFi（浸润式光刻机）。
主流的芯片还是32nm，45nm。
还未发布的小米一代，用的就是高通45nm，导致发热严重。
而国内则处于第四代光刻机ArF的研发。
实际上，魔都微电子在2007年，就造出四代光刻机样机。
奈何部分元器件被西方封锁禁运，无法量产，国产也做不到。
直到九年后，2016年国产元器件全面突破，才实现四代光刻机量产！
也是这一年，阿斯麦量产了第六代光刻机——EUV光刻机。
若是在2011年官方就大力发展光刻机上下游产业链，第四代光刻机说不定能提前几年量产。
第五代光刻机，也有希望能提前问世好多年！
第五代光刻机做到极致，可以生产7nm芯片，足够满足未来十多年的需求。
若真实现量产，再加上中芯国际造芯片的工艺。
王……
(ò﹏ò)
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